Säulenreinigung und Fehlerbehebung

Wenn eine Säule durch in der Säule verbleibende oder vom Packungsmaterial adsorbierte Fremdstoffe beschädigt wird, können die Substanzen durch das unten beschriebene Verfahren ausgewaschen werden. Manchmal reicht das Verfahren jedoch nicht aus, um die Säule zu regenerieren, und in einem solchen Fall muss die Säule durch eine neue ersetzt werden. Und selbst wenn die Säule regeneriert werden kann, ist die Säulenleistung möglicherweise nicht mehr so gut wie zuvor.

Achten Sie nach der Reinigung der Säule darauf, das Lösungsmittel in der Säule durch das normale Lösungsmittel zu ersetzen. Die Verwendung einer Vorsäule vor der Hauptsäule wird empfohlen, um zu verhindern, dass die Hauptsäule durch Fremdstoffe beschädigt wird. Wenn eine Vorsäule verwendet wird, wird zuerst die Vorsäule durch die Fremdsubstanzen beschädigt, und es ist möglich, die Hauptsäule vor einer Verschlechterung zu bewahren, indem die Vorsäule regelmäßig ausgetauscht wird.

Achten Sie beim Reinigen einer Vorsäule darauf, die Hauptsäule vor der Reinigung zu trennen. Wenn eine Vorsäule und eine Hauptsäule in Reihe geschaltet sind und die Reinigungsprozedur durchgeführt wird, können sich Fremdstoffe in der Vorsäule zur Hauptsäule bewegen und als Folge davon kann die Hauptsäule beschädigt werden.

Für weitere Informationen lesen und laden Sie bitte auch die Säulenhandbücher herunter:

Säulenhandbücher

Reinigungsverfahren und Regenerierung von Reversed Phase (RP)-Säulen

Asahipak ODP-50 series

(2) Befolgen Sie die nachstehenden Reinigungsschritte für adsorbierende Komponenten. Für eine effiziente Reinigung die Flussrichtung umkehren und die Flussrate mit weniger als der Hälfte der empfohlenen Flussrate verwenden. Geben Sie das 5- bis 10-fache Säulenvolumen des Waschlösungsmittels ein.

Methode 1: Waschen mit basischem Lösungsmittel

Nach längerem Gebrauch der Säule unter sauren bis neutralen Bedingungen auftragen. Spülen mit 0,1 M Natronlauge/Acetonitril = 80/20.

Methode 2: Waschen mit saurem Lösungsmittel

Nach längerem Gebrauch der Säule unter basischen bis neutralen Bedingungen auftragen. Spülen mit 50 mM wässrige Phosphorsäurelösung/Acetonitril = 90/10.

Methode 3: Waschen mit organischem Lösungsmittel

Tragen Sie es auf, nachdem Sie die Säule über einen längeren Zeitraum unter stark wässrigen Bedingungen verwendet haben. Spülen mit Wasser/Acetonitril = 20/80.

Asahipak C4P

(1) Unlösliche Komponenten, die den Säuleneinlass blockieren, können entfernt werden, indem die Flussrichtung umgekehrt wird, dh der Eluent aus dem Säulenauslass eingeführt wird, wobei die Flussrate weniger als die Hälfte der empfohlenen Flussrate beträgt.
(2) Befolgen Sie die nachstehenden Reinigungsschritte für adsorbierende Komponenten. Für eine effiziente Reinigung die Flussrichtung umkehren und die Flussrate mit weniger als der Hälfte der empfohlenen Flussrate verwenden. Geben Sie das 5- bis 10-fache Säulenvolumen des Waschlösungsmittels ein.

Methode 1: Waschen mit basischem Lösungsmittel

Nach längerem Gebrauch der Säule unter sauren bis neutralen Bedingungen auftragen. Spülen mit 0,1 M Natronlauge/Acetonitril = 80/20.

Methode 2: Waschen mit saurem Lösungsmittel

Nach längerem Gebrauch der Säule unter basischen bis neutralen Bedingungen auftragen. Spülen mit 50 mM wässrige Phosphorsäurelösung/Acetonitril = 90/10.

Methode 3: Waschen mit organischem Lösungsmittel

Tragen Sie es auf, nachdem Sie die Säule über einen längeren Zeitraum unter stark wässrigen Bedingungen verwendet haben. Spülen mit Wasser/Acetonitril = 20/80.

RSpak DE series

Methode 1: Waschen mit basischem Lösungsmittel

Nach längerem Gebrauch der Säule unter sauren bis neutralen Bedingungen auftragen. Spülen mit 10 mM Natronlauge/Acetonitril = 80/20.

Methode 2: Waschen mit saurem Lösungsmittel

Nach längerem Gebrauch der Säule unter basischen bis neutralen Bedingungen auftragen. Spülen mit 50 mM wässrige Phosphorsäurelösung/Acetonitril = 90/10.

Methode 3: Waschen mit organischem Lösungsmittel

Tragen Sie es auf, nachdem Sie die Säule über einen längeren Zeitraum unter stark wässrigen Bedingungen verwendet haben. Spülen mit Wasser/Acetonitril = 20/80.

RSpak DS series

(1) Unlösliche Komponenten, die den Säuleneinlass blockieren, können entfernt werden, indem die Flussrichtung umgekehrt wird, dh der Eluent vom Säulenauslass eingeführt wird, wobei die Flussrate weniger als die Hälfte der empfohlenen Flussrate beträgt.
(2) Befolgen Sie die nachstehenden Reinigungsschritte für adsorbierende Komponenten. Für eine effiziente Reinigung die Flussrichtung umkehren und die Flussrate mit weniger als der Hälfte der empfohlenen Flussrate verwenden. Geben Sie das 5- bis 10-fache Säulenvolumen des Waschlösungsmittels ein.

Methode 1: Waschen mit basischem Lösungsmittel

Nach längerem Gebrauch der Säule unter sauren bis neutralen Bedingungen auftragen. Spülen mit 10 mM Natronlauge/Acetonitril = 80/20.

Methode 2: Waschen mit saurem Lösungsmittel

Nach längerem Gebrauch der Säule unter basischen bis neutralen Bedingungen auftragen. Spülen mit 50 mM wässrige Phosphorsäurelösung/Acetonitril = 90/10.

Methode 3: Waschen mit organischem Lösungsmittel

Tragen Sie es auf, nachdem Sie die Säule über einen längeren Zeitraum unter stark wässrigen Bedingungen verwendet haben. Spülen mit Wasser/Acetonitril = 20/80.

RSpak DM-614

(2) Befolgen Sie die nachstehenden Reinigungsschritte für adsorbierende Komponenten. Für eine effiziente Reinigung die Flusssrichtung umkehren.

Methode: Stellen Sie die Flussrate auf 0,3 ml/min ein und spülen Sie mit 50 ml Methanol, Acetonitril oder Wasser.

RSpak NN-814

(2) Falls eine Adsorption ionischer Substanzen vermutet wird, injizieren Sie mehrmals 20-50 μl einer wässrigen 2 M Salpetersäurelösung, während Sie den Eluenten für die Analyse laufen lassen.

RSpak JJ-50 2D

Kehren Sie die Richtung um und die Flussrate beträgt 0,1 ml/min.

(Verschmutzung durch niedrigvalente hydrophile Ionen)

1) H2O 6 min, 2) 0,1 M NaOH wässr. 75 min, 3) H2O 12 min, 4) Laufmittel 40 min

(Verschmutzung durch Metallionen)

1) H2O 6 min, 2) 0,1 M HNO3 wässr. 75 min, 3) H2O 6 min, 4) 0,1 M NaOH wässr. 75 min, 5) H2O 12 min, 6) Laufmittel 40 min

(Verschmutzung durch hochvalente hydrophobe Ionen)

1) H2O 25 min, 2) 5 % Acetonitril wässr. 20 min, 3) 100 % Acetonitril 100 min, 4) H2O 50 min

ODP2 series

Informationen zum Waschen mit basischen, sauren oder organischen Lösungsmitteln finden Sie im Säulenhandbuch.

Silica C18M series

Nach Verwendung der Säule unter stark wässrigen Bedingungen auftragen. Wasser/Acetonitril = 20/80 einfüllen.
Bei proteinhaltigen Proben auftragen. Wasser/Acetonitril = 50/50 - 30/70 (mit 0,1 % TFA) zugeben

Reinigungsverfahren und Regenerierung von
HILIC-Säulen

Asahipak NH2P-50 4E

(Standardreinigung)
Kehren Sie die Richtung um und die Flussrate beträgt 0,5 ml/min.
1) H2O 10 min, 2) 0,1 M NaOH wässr. 120 min, 3) H2O 20 min, 4) Laufmittel 60 min
(Reinigung von Metallionen)
Kehren Sie die Richtung um und die Flussrate beträgt 0,5 ml/min.
1) H2O 10 min, 2) 0,1 M HClO4 wässr. 60 min, 3) H2O 10 min, 4) 0,1 M NaOH aq. 120 min, 5) H2O 20 min, 6) Laufmittel 60 min

HILICpak VG-50

(Standardreinigung) VG-50 4E
Kehren Sie die Richtung um und die Flussrate beträgt 0,5 ml/min.
1) H2O 10 min, 2) 0,1 M NaOH wässr. 120 min, 3) H2O 20 min, 4) Laufmittel 60 min
(Reinigung von Metallionen)
Kehren Sie die Richtung um und die Flussrate beträgt 0,5 ml/min.
1) H2O 10 min, 2) 0,1 M HNO3 wässr. 60 min, 3) 1) H2O 10 min, 4) 0,1 M NaOH aq. 120 min, 5) H2O 20 min, 6) Laufmittel 60 min

(Standardreinigung) VG-50 2D
Kehren Sie die Richtung um und die Flussrate beträgt 0,1 ml/min.
1) H2O 6 min, 2) 0,1 M NaOH wässr. 75 min, 3) H2O 12 min, 4) Laufmittel 40 min
(Reinigung von Metallionen)
Kehren Sie die Richtung um und die Flussrate beträgt 0,1 ml/min.
1) H2O 6 min, 2) 0,1 M HNO3 wässr. 75 min 3) 1) H2O 6 min, 4) 0,1 M NaOH aq. 75 min, 5) H2O 12 min, 6) Laufmittel 40 min

HILICpak VT-50 2D

(Standardreinigung)
Kehren Sie die Richtung um und die Flussrate beträgt 0,1 ml/min.
1) H2O 6 min, 2) 0,1 M NaOH wässr. 75 min, 3) H2O 12 min, 4) Laufmittel 40 min
(Reinigung von Metallionen)
Kehren Sie die Richtung um und die Flussrate beträgt 0,1 ml/min.
1) H2O 6 min, 2) 0,1 M HNO3 wässr. 75 min 3) 1) H2O 6 min, 4) 0,1 M NaOH aq. 75 min, 5) H2O 12 min, 6) Laufmittel 40 min

HILICpak VC-50 2D

Kehren Sie die Richtung um und die Flussrate beträgt 0,1 ml/min.
1) H2O 10 min, 2) 25 mM HNO3 aq./CH3CH=70/30 60 min, 3) H2O 10 min, 4) Eluent 60 min

HILICpak VN-50

Wenn Sie die Richtung umkehren, beträgt die Flussrate 0,3 ml/min (VN-50 4D) oder 0,1 ml/min (VN-50 2D).
1) H2O 6 min, 2) 0,1 M HNO3 wässr. 75 min, 3) H2O 6 min, 4) 0,1 M NaOH wässr. 75 min, 5) H2O 12 min, 6) Laufmittel 40 min

Reinigungsverfahren und Regenerierung von
SUGAR-Säulen (Ligandenaustausch)

SUGAR SP0810

H2O-Fluss bei 70 - 95 °C, 0,5 ml/min. Injizieren Sie dann 3 oder 4 Mal 50 μl 0,2 M wässriges Pb(NO3)2.

SUGAR SC1011

SUGAR EP SC1011-7F

USPpak MN-431

50 ml 0,1 M wässrige Ca(NO3)2-Lösung bei 50 °C, 0,5 ml/min fließen lassen.

SUGAR SC1211

Nachdem Sie das Lösungsmittel in der Säule vollständig durch H2O ersetzt haben, lassen Sie 30 ml einer wässrigen 0,1 M Ca(NO3)2-Lösung bei 50 °C mit 0,5 ml/min fließen. Ersetzen Sie dann das Lösungsmittel in der Säule vollständig durch H2O und erhöhen Sie die Konzentration des organischen Lösungsmittels schrittweise auf die zu verwendende Konzentration.

SUGAR KS-800 series

Fließen Sie 0,2 M wässrige NaOH-Lösung mit 0,5 ml/min. Ersetzen Sie nach dem Fließen des Lösungsmittels das Lösungsmittel in der Säule vollständig durch H2O. (Manchmal ist die Injektion von 40 μL einer wässrigen 1 M NaOH-Lösung ausreichend.)

SUGAR SZ5532

Nachdem Sie das Lösungsmittel in der Säule vollständig durch H2O ersetzt haben, lassen Sie 30 ml einer wässrigen 0,1 M Zn(NO3)2-Lösung bei 50 °C mit 0,5 ml/min fließen. Ersetzen Sie dann das Lösungsmittel in der Säule vollständig durch H2O und erhöhen Sie die Konzentration des organischen Lösungsmittels schrittweise auf die zu verwendende Konzentration.

RSpak DC-613

Lassen Sie 50 ml Methanol, Ethanol, CH3CN oder 50 mM wässrige NaOH-Lösung fließen. Oder injizieren Sie 20 bis 50 μL einer wässrigen 0,5 M NaOH-Lösung.

Reinigungsverfahren und Regenerierung von
Ionenausschlusssäulen (organische Säuren)

SUGAR SH1011

SUGAR SH1821

50 ml einer wässrigen 25-mM-H2SO4-Lösung bei 50 °C mit 0,5 ml/min fließen lassen.

RSpak KC-811

50 ml einer wässrigen 25-mM-H2SO4-Lösung bei 50 °C mit 0,5 ml/min fließen lassen.

Reinigungsverfahren und Regenerierung von wässrigen SEC-Säulen

PROTEIN KW-800

series

Reverse the direction and flow rate is 0.5 mL/min. The volume of the cleaning solvent required is 5 to 10 times the column volume.
1) In case where protein has been adsorbed :
Use a solvent containing 0.5 M salt or phosphate buffer (about pH3.0).
2) In case where a hydrophobic substance has been adsorbed :
Use a solvent containing 10 to 20 % acetonitrile or methanol.

PROTEIN LW-803

PROTEIN KW-400 series

Reverse the direction and flow rate is 0.15 mL/min. The volume of the cleaning solvent required is 5 to 10 times the column volume.
1) In case where protein has been adsorbed :
Use a solvent containing 0.5 M salt or phosphate buffer (about pH3.0).
2) In case where a hydrophobic substance has been adsorbed :
Use a solvent containing 10 to 20 % acetonitrile or methanol.

PROTEIN LW-403 4D

Reverse the direction and flow rate is 0.15 mL/min. The volume of the cleaning solvent required is 5 to 10 times the column volume.

1) In case where protein has been adsorbed :Use a solvent containing 0.5 M salt or phosphate buffer (about pH3.0).

2) In case where a hydrophobic substance has been adsorbed :Use a solvent containing 10 to 20 % acetonitrile or methanol.

OHpak SB-800 HQ series

OHpak LB-800 series

Reverse the column on the HPLC system, flow the eluent at 50 % of ordinary flow rate. This is effective for the foreign substances remaining in the column, however not effective for the substances adsorbed to the packing material.

Reinigungsverfahren und Regenerierung von
organischen SEC-Säulen

GPC KF-800 series

GPC KF-400HQ

GPC KD-800 series

GPC HK-400 series

GPC LF series

CLNpak EV series

MSpak GF-4A

Method 1: Adsorption of hydrophobic compounds (when using aqueous eluent)

For an efficient cleaning, reverse the flow direction. Introduce the eluent with higher acetonitrile or methanol concentration. Set the flow rate at less than 0.2 mL/min. Recommended solvent volume to introduce is 5 to 10 times of the column volume.

Method 2: Adsorption of hydrophobic compounds (when using aqueous eluent)

For an efficient cleaning, reverse the flow direction. Introduce the eluent with higher salt concentration. Set the flow rate at less than 0.2 mL/min. Recommended solvent volume to introduce is 5 to 10 times of the column volume.

Keep the polar organic solvent and salt concentrations within the concentrations stated in the Operation Manual "List of Applicable Solvents".

Keeping the washing solution in the column for a long time will lead to column deterioration. Please replace the washing solution with the eluent immediately after cleaning.

Cleaning procedure and regeneration of
Ion Exchange columns

IEC QA-825

For an efficient cleaning, reverse the flow direction.

Set the flow rate at 0.5 mL/min. Introduce the eluent and inject 1 to 2 mL of 0.1 M aqueous sodium hydroxide solution several times.

IEC DEAE-825

For an efficient cleaning, reverse the flow direction.

Set the flow rate at 0.5 mL/min. Introduce the eluent and inject 1 to 2 mL of 0.1 M aqueous sodium hydroxide solution several times.

Asahipak ES-502N 7C

For an efficient cleaning, reverse the flow direction.

Method 1: Adsorption of ionic compounds

Introduce an eluent with higher salt concentration or 10 mM aqueous sodium hydroxide solution. Recommended solvent volume to introduce is 5 to 10 times of the column volume.

Method 2: Adsorption of hydrophobic compoundsIntroduce a mixture of solvent containing 50 mM eluent (buffer or aqueous salt solution) and 50 % (v/v) acetonitrile or methanol. Recommended solvent volume to introduce is 5 to 10 times of the column volume.

Keeping the washing solution in the column for a long time will lead to column deterioration. Please replace the washing solution with the eluent immediately after cleaning.

IEC SP-825

For an efficient cleaning, reverse the flow direction.

Set the flow rate at 0.5 mL/min. Introduce the eluent and inject 1 to 2 mL of 30 % (v/v) aqueous acetic acid solution several times.

IEC SP-FT 4A

For an efficient cleaning, reverse the flow direction.

Method 1: Adsorption of proteins

Introduce an eluent with higher salt concentration (about 1 M) or 0.1 % nonionic surfactants. Recommended solvent volume to introduce is 5 to 10 times of the column volume.

Method 2: Adsorption of hydrophobic compounds

Introduce a mixture of solvent containing 50 mM eluent (buffer or aqueous salt solution) and 10 to 20 % (v/v) acetonitrile. Recommended solvent volume to introduce is 5 to 10 times of the column volume.

Keeping the washing solution in the column for a long time will lead to column deterioration. Please replace the washing solution with the eluent immediately after cleaning.

IEC CM-825

For an efficient cleaning, reverse the flow direction.

Set the flow rate at 0.5 mL/min. Introduce the eluent and inject 1 to 2 mL of 30 % (v/v) aqueous acetic acid solution several times.

Asahipak ES-502C 7C

For an efficient cleaning, reverse the flow direction.

Method 1: Adsorption of ionic compounds

Introduce an eluent with higher salt concentration or 0.1 M aqueous acetic acid solution. Recommended solvent volume to introduce is 5 to 10 times of the column volume.

Adsorption of hydrophobic compounds

Introduce a mixture of solvent containing 50-mM eluent (buffer or aqueous salt solution) and 50 % (v/v) acetonitrile or methanol. Recommended solvent volume to introduce is 5 to 10 times of the column volume.

Keeping the washing solution in the column for a long time will lead to column deterioration. Please replace the washing solution with the eluent immediately after cleaning.

CXpak P-421S

Reverse the column on the HPLC system, flow the eluent at 50 % of ordinary flow rate.

Cleaning procedure and regeneration of
Chiral column

ORpak CDBS-453

For an efficient cleaning, reverse the flow direction. Set the flow rate at 0.5 mL/min. Introduce 50 mL of acetonitrile or methanol. (Cleaning time: 100 minutes).

Keeping the Washing solution in the column for a long time will lead to column deterioration. Please replace the Washing solution with the eluent immediately after cleaning.

Für weitere Informationen lesen und laden Sie bitte auch die Säulenhandbücher herunter:

Säulenhandbücher

Fehlerbehebung - Abnormale Peakform

Fehlerbehebung - Schwankungen in der Elutionszeit

troubleshooting fluctuation in elution time

Fehlerbehebung - Fluktuation in der Basislinie

Fehlerbehebung – Rauschen in der Grundlinie

Fehlerbehebung - Druckanstieg